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「部隊配置」(2007/01/28 (日) 19:10:56) の最新版変更点
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部隊配置
#contents
*部隊配置
エレメントからなる部隊同士の闘いにおいては、部隊編成や機動などの部隊戦術が重要となります。その部隊戦術を検討する前に、部隊同士の戦闘の特質を検討します。
**部隊戦闘の特質
部隊同士の戦いは、エレメント同士の戦いの積み重ね、そして全体としての部隊同士の戦いにより勝敗が決します。したがって、1つのエレメントが勝利すれば、残りの全エレメントが敗北しても部隊としては防御に成功します。
例えば、
（審査官側）
Ａ’Ｂ’Ｃ’
－－前 線－－
Ａ Ｂ Ｃ Ｄ
（出願人側）
においては、審査官側が出願人側のエレメントＤに相当するエレメントを有する部隊を構築できない限り、出願人側の部隊を打ち破ることはかないません。
しかしながら、エレメントＤがエレメントＡ、Ｂ、Ｃとの連携がとれない場合（他のエレメントとの協同した作用効果を奏さない場合）、エレメントＤの攻撃力が微小な場合（周知なエレメントの場合）、などにおいては審査官側部隊の攻撃を持ちこたえることができず、出願人側部隊が敗北することがあります。
繰り返しになりますが、いちエレメントにおける勝敗は全体の勝敗には直接影響しません。
例えば
（審査官側）
ａ ｂ Ｃ
－－前 線－－
Ａ Ｂ ｃ
（出願人側）
において、審査官側は攻撃力の高い下位概念のエレメントａ、ｂを用意していますが、エレメントｃを崩せないため、出願人としてはエレメントＡ、Ｂの敗北を気にする必要はありません。
以上のように、部隊におけるエレメントの前進（上位概念化）と後退（下位概念化）、エレメントの参加（限定の追加）と退却（限定の削除）は、エレメント単位で考えるのではなく、部隊全体を見渡して考える必要があります。
**エレメント配置
次に、エレメント配置の一般的に性質ですが
横隊
Ａ Ｂ Ｃ Ｄ Ｅ Ｆ
>エレメントを横に配列していく隊形です。個々のエレメントの攻撃力が相加相乗されますので、部隊としての攻撃力は高いですが、権利範囲は狭くなります。
縦隊
Ａ
ａ
ａ1
ａ11
>エレメントを縦にならべて縦深を取ります。幾重にも亘る後退ラインが確保されます。
以上の横隊、縦隊がエレメント配置を考える上での基本となります。
次にエレメント間の連携を考慮します。
部隊構成が
Ａ⇔Ｂ⇔Ｃ
となっており、ＡとＢ、ＢとＣとに連携が認められるもののＡとＣとの連携がない場合を考えます。
斜行陣
Ａ Ｂ ｃ
>部隊全体の連携について重要性があまり高くないエレメントＣをキーエレメントとする陣形。発明の前提部分で特徴づけを行う、という戦術といえる。技術トレンドが変わり、先行技術中にエレメントｃが記述されている可能性が低く、一方で今後は常套となることが予想される場合に有効な陣形です。
楔形陣
Ａ ｂ Ｃ
>部隊全体の連携について重要性が高いエレメントＢをキーエレメントとする陣形。あくまで発明としての質を重要視する戦術で、攻撃力が期待される半面、権利範囲は狭くなる虞がある。
凹角陣
ａ Ｂ ｃ
>部隊全体の連携について重要性が高いエレメントＢの限定を避ける陣形。発明原理にかかわる部分の限定を避ける戦術で、非本質部分の限定は均等論でカバーするか、特許数でカバーする。
また、縦隊、横隊を組合わせることにより、次のような配置を行う。
梯隊配置
Ａ Ｂ ｃ
ｃ1
>エレメントＣを主軸に突破を狙う。ＡとＢはＣをサポートする。ｃで突破できない場合に備えて、より下位概念のｃ1を用意しておく。
重畳配置
Ａ Ｂ Ｃ
ａ ｂ ｃ
>特許取得目的の変更に備えて、各エレメントが突破されても阻止できるよう、第二陣を用意しておく。
部隊配置
#contents
*部隊配置
エレメントからなる部隊同士の闘いにおいては、部隊編成や機動などの部隊戦術が重要となります。その部隊戦術を検討する前に、部隊同士の戦闘の特質を検討します。
**部隊戦闘の特質
部隊同士の戦いは、エレメント同士の戦いの積み重ね、そして全体としての部隊同士の戦いにより勝敗が決します。したがって、1つのエレメントが勝利すれば、残りの全エレメントが敗北しても部隊としては防御に成功します。
例えば、
（審査官側）
Ａ’Ｂ’Ｃ’
－－前 線－－
Ａ Ｂ Ｃ Ｄ
（出願人側）
においては、審査官側が出願人側のエレメントＤに相当するエレメントを有する部隊を構築できない限り、出願人側の部隊を打ち破ることはかないません。
しかしながら、エレメントＤがエレメントＡ、Ｂ、Ｃとの連携がとれない場合（他のエレメントとの協同した作用効果を奏さない場合）、エレメントＤの攻撃力が微小な場合（周知なエレメントの場合）、などにおいては審査官側部隊のエレメントが各個撃破され、出願人側部隊が敗北することがあります。
繰り返しになりますが、いちエレメントにおける勝敗は全体の勝敗には直接影響しません。
例えば
（審査官側）
ａ ｂ Ｃ
－－前 線－－
Ａ Ｂ ｃ
（出願人側）
において、審査官側は攻撃力の高い下位概念のエレメントａ、ｂを用意していますが、エレメントｃを崩せないため、出願人としてはエレメントＡ、Ｂの敗北を気にする必要はありません。
以上のように、部隊におけるエレメントの前進（上位概念化）と後退（下位概念化）、エレメントの参加（限定の追加）と退却（限定の削除）は、エレメント単位で考えるのではなく、部隊全体を見渡して考える必要があります。
**エレメント配置
次に、エレメント配置の一般的に性質ですが
横隊
Ａ Ｂ Ｃ Ｄ Ｅ Ｆ
>エレメントを横に配列していく隊形です。個々のエレメントの攻撃力が相加相乗されますので、部隊としての攻撃力は高いですが、権利範囲は狭くなります。
縦隊
Ａ
ａ
ａ1
ａ11
>エレメントを縦にならべて縦深を取ります。幾重にも亘る後退ラインが確保されます。
以上の横隊、縦隊がエレメント配置を考える上での基本となります。
次にエレメント間の連携を考慮します。
部隊構成が
Ａ⇔Ｂ⇔Ｃ
となっており、ＡとＢ、ＢとＣとに連携が認められるもののＡとＣとの連携がない場合を考えます。
斜行陣
Ａ Ｂ ｃ
>部隊全体の連携について重要性があまり高くないエレメントＣをキーエレメントとする陣形。発明の前提部分で特徴づけを行う、という戦術といえる。技術トレンドが変わり、先行技術中にエレメントｃが記述されている可能性が低く、一方で今後は常套となることが予想される場合に有効な陣形です。
楔形陣
Ａ ｂ Ｃ
>部隊全体の連携について重要性が高いエレメントＢをキーエレメントとする陣形。あくまで発明としての質を重要視する戦術で、攻撃力が期待される半面、権利範囲は狭くなる虞がある。
凹角陣
ａ Ｂ ｃ
>部隊全体の連携について重要性が高いエレメントＢの限定を避ける陣形。発明原理にかかわる部分の限定を避ける戦術で、非本質部分の限定は均等論でカバーするか、特許数でカバーする。
また、縦隊、横隊を組合わせることにより、次のような配置を行う。
梯隊配置
Ａ Ｂ ｃ
ｃ1
>エレメントＣを主軸に突破を狙う。ＡとＢはＣをサポートする。ｃで突破できない場合に備えて、より下位概念のｃ1を用意しておく。
重畳配置
Ａ Ｂ Ｃ
ａ ｂ ｃ
>特許取得目的の変更に備えて、各エレメントが突破されても阻止できるよう、第二陣を用意しておく。
