機動


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機動

機動


審査過程では、審査官側の部隊に対応したエレメント機動が重要になります。

まずは、機動の周辺から見ていきます。

エレメント投入


エレメント機動の典型例は、

(審査官側)
A’B’C’
--前 線--
A B C
(出願人側)

の状態に対して、エレメントDを追加し

(審査官側)
A’B’C’
--前 線--
A B C D
(出願人側)

とする、などが挙げられます。

また、エレメントCを下位概念のcに置き換える

(審査官側)
A’B’C’
--前 線--
A B c
(出願人側)

ここで注意しなければならないのは、これまでに部隊に含まれていなかった(クレームセットに入っていなかった)エレメントを追加することは、審査官側の部隊再構成(先行技術の再サーチ)につながるということです。これに対抗して、出願人側で再度投入を図るとなると、審査官による部隊の再々構築が、と繰り返されてしまいます。

このように、エレメントの逐次投入は戦局の膠着を引き起こしますので、時間を稼ぎたいといった事情がない限りは、前線投入の可能性のあるエレメントは、第二陣以降に予め配置しておくことが望ましいといえます。

また、国によっては、または審査段階においては、エレメント投入に制限が課せられる場合があります。

転進


審査官による部隊構成が強く、打ち破ることが困難な場合は転進を検討するのも手です。

例えば

(審査官側)
A’B’C’
--前 線--
A B C
(出願人側)

という状況において

(審査官側)
A’B’C’
--前 線--
D E F
(出願人側)

とするものです。

転進もまた、国・審査段階においては制限が課せられる場合があります。その場合、分割出願などを行う必要が生じます。

転進した場合の戦況をうらなうために、次のような部隊構成をとることが考えられます。

A B
    C D E F

前線をAとBのみとして、審査官側部隊に確実に敗北させつつ、第二陣のC~Fエレメントの戦闘状況を見ます。エレメントD~Fに匹敵するエレメントが審査官部隊中に見出される場合には、転進は徒労に終わる可能性が高いということになります。ただ、単一性には気をつける必要があります。

防御戦術


特許出願前の先行技術調査により審査官の部隊構成を予め想定することは可能です。しかしながら、予期しない先行技術に基づく部隊構成に備えることも重要です。

防御のための基本となるのは、縦深を深く取ることです。

A B C
a b c D
  b1 c1 d1
  b11

このとき、重要性に応じてエレメントの縦深の深さを変えます。十分な縦深を確保した縦深陣を敷いておけば、審査官部隊との勝敗の帰趨を読みやすくなります。なお、縦深の深さについては庁費用も考慮する必要があります。

また、審査官側の部隊構成を見て、出願人側も柔軟に部隊構成を変えるために、実施例などにおけるエレメント源から前線に新たなエレメントを投入することも重要になります。

この場合、エレメントとなる可能性のあるものはすべて実施例などに入れておく必要がありますが、それでは焦点が定まらず漫然とした陣容となってしまう虞がありますので、防御の基点を定めておくべきです。

例えば

A B C
a b c

という部隊構成において、AとBを防御基点として、エレメントCに関連するエレメント源c1、c2、c3...を、また新たな投入エレメントしてD、E、F...を、用意しておき、審査官の部隊構成を見てから機動を行います。このような機動防御は
エレメントの逐次投入につながる危険性がありますが、それを上回るメリットが見出せる場合は有用な戦術となります。
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